將封裝好的器件放入密封實驗箱,將光學干涉儀調(diào)整到觀測封裝的蓋帽。然后將實驗箱抽真空,超聲波檢漏儀同時用光學干涉觀測蓋帽是否變形。在視野內(nèi),超聲波檢漏儀同時觀測每一只封裝的蓋帽是否隨壓力變化而變化。在減小的壓力下保持時間t1,其蓋帽有無繼續(xù)變形。如果開始時隨著實驗箱壓力改變,未檢測到蓋帽變形,或子啊實驗箱壓力保持恒定的情況下,超聲波檢漏儀檢測到蓋帽變形,則器件粗檢漏不合格,應該拒收。上述程序為光學粗檢漏。
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